应用 / L-DED
激光定向能量沉积
L-DED 用同轴或旁轴喷嘴把粉末送入激光熔池，不受成形舱尺寸限制，用于大型构件近净成形和高价值零件修复。从喷嘴到熔池的过程，决定熔道几何和稀释率。
- 典型粒径
- 53–150 μm
- 送粉
- 同轴 / 旁轴
与铺粉不同，L-DED 的粉末在气流中输送。球形度越高、表面越光洁，管路和喷嘴里的流动越顺，单位时间送粉量的波动越小。波动会直接写进熔道高度和宽度。
53–150 μm 比表面积小，不易团聚，在载气中分散更好；大颗粒对激光的耦合更稳，飞溅更少。过细的粉末容易在熔池上方形成粉末云，遮挡激光并造成未熔合。
修复层的气孔常常在机加工之后才暴露，返工成本高。低空心粉率是从材料侧降低这个风险。
选型窗口
- 典型粒径段
- 53–150 μm
- 球形度
- ≥ 98%
- 流动性
- 典型 ≤ 18 s / 50 g
- 空心粉率
- ≤ 0.1%
- 松装密度
- ≥ 55% 理论密度
- 推荐层厚
- 0.4–1.2 mm（依设备）
- 载气
- 高纯氩
真正要看的指标
- 01
高球形度
减少管路粘附和喷嘴堵塞。
- 02
低空心粉率
降低修复层内部气孔。
- 03
窄粒径分布
熔道几何和稀释率更稳。
- 04
低氧低夹杂
影响熔覆层结合和疲劳性能。